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美国时间2022年8月15日,美国商务部工业安全局(Bureau of Industry and Security of U.S. Department of Commerce或BIS。以下简称“BIS”)发布了一项最终规则(以下简称“本次新规”)[1],其正在修改《商业管制清单》(the Commerce Control List,以下简称“CCL”)[2],即:通过修订5个美国出口管制编码(又称:ECCN)以及增加1个新的ECCN编码,以实施对四种技术的管制,四种将被出口管制的技术中,最受瞩目的是:“专门设计”用于“开发”具有任何“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”(“GAAFET”)结构的集成电路(IC)的计算机辅助电子设计软件(“ECAD软件”)。BIS为该技术增加了新ECCN编码,即:3D006。
BIS本次新规中认为,ECAD软件是一类用于设计、分析、优化和测试集成电路或印刷电路板性能的电脑软件,被用于军事和航空航天防御的各种应用中设计复杂的集成电路。而GAAFET技术方法是实现3纳米及以下技术节点的关键,该技术可以使生产更快、更节能、更耐辐射的集成电路成为可能,可推进许多商业及在国防和通讯卫星的军事应用。因此,本次BIS新增管制的ECAD软件,意味着美方旨在限制专门设计用于开发3纳米及以下技术节点关键的GAAFET结构的集成电路的设计软件的出口、再出口、在美国以外的一国国内转让的行为。
此外,美国商务部本次修订,也是响应了2021年 12月瓦森纳全体会议上,各国政府参与的《关于常规武器与两用物项和技术出口控制的瓦森纳安排》(The Wassenaar Arrangement on Export Controls for Conventional Arms and Dual-Use Good and Technologies,以下简称“《瓦森纳安排》”)中共同决定的新增对部分物项的管制措施。
一、什么是《瓦森纳安排》? 《瓦森纳安排》创设了管制物项清单(Control Lists),即《两用物项和技术清单和军需品清单》(List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List)。参与国可以对《两用物项和技术清单和军需品清单》中所列的所有物项实施出口管制,目的是防止这些物项未经授权转让或再转让[3],以确保管制物项不会有助于发展或增强军事能力,也不会被用于支持该能力,从而减损《瓦森纳安排》的目的。 二、2021年12月22日瓦森纳安排发布2021年版管制物项清单,新增了具有特定设计功能的ECAD软件作为管制物项。
可见,认为在未来3或4纳米及以下的芯片器件中,GAAFET将成为主要芯片结构之一。因此,GAAFET也将是中国芯片行业的主要发展方向,对中国芯片发展将起到至关重要的作用。
三、美国商务部对于受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件的具体管制规定,是为了响应2021年12月22日《瓦森纳安排》中对于管制物项清单的修改。
如上所述,BIS在本次新规中表示,BIS正在修改《商业管制清单》(CCL),其中包括增加新的ECCN编码,即:ECCN编码3D006,以管制:
四、《瓦森纳安排》的管制物项清单的修改对中国芯片行业的影响
根据《瓦森纳安排》创始文件(Founding Document)“准则和程序,包括初步要点(Guidelines and Procedures, including the Initial Elements)”中第二章第三节的规定,“转让或拒绝转让任何物项的决定,由各参与国自行负责。就《瓦森纳安排》采取的一切措施,均应符合各国的立法和政策,并根据各国的酌处权予以执行[12]”。
因此,《瓦森纳安排》的参与国,可以根据每年《瓦森纳安排》的修订内容,相应调整其一国内法,以体现《瓦森纳安排》及其管制清单中约定的两用物项和技术及军需品的出口管制措施。
(二) 美国国内法律回应《瓦森纳安排》的管制清单修订的情况
根据以往的情况,美国政府会在《瓦森纳安排》的管制清单修改后针对其本国的管制清单进行调整。
2021年
例如,本文上述提到的,2021年版《瓦森纳安排》修订了《两用物项和技术清单和军需品清单》(List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List) (即:“WA-LIST(21)”),相回应的,BIS已经修改了其内国法规定中 《商业管制清单》(CCL),以限制对“‘专门设计’用于‘开发’具有任何‘Gate-All-Around Field-Effect Transistor’(GAAFET)结构的集成电路的计算机辅助电子设计软件(ECAD软件)”的出口。
2019年
此外,早在2019年12月瓦森纳安排秘书处发布了2019年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》(即:WA-LIST(19)),其中修改了3. D. 3的内容。相应的,2020年10月5日,美国商务部工业安全局(BIS)公布了一条规则(85 FR 62583)[13],实施对2019年12月瓦森纳安排对2019年版《两用物项和技术清单和军需品清单》(即:WA-LIST(19))的修改内容,受影响的美国出口管制分类编号(ECCN)为3D003,该编码的内容被修改为“开发”EUV光刻掩膜或版上的图案而“专门设计”的计算光刻“软件”(`Computational Lithography' “Software” “Specially Designed” for the “Development” of Patterns on EUV-Lithography Masks or Reticles)[14],可见,美国BIS根据《瓦森纳安排》对2019年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》(即:WA-LIST(19))的修订,时隔近一年内,相应修改了其内国法规定中 《商业管制清单》(the Commerce Control List (CCL))中的美国出口管制编码ECCN码“3D003”的管制内容,该修改与瓦森纳安排WA-LIST 19中针对3. D. 3的修改内容一致。
五、总结与建议 1. 根据本次BIS新规,本次美国BIS新增管制的ECAD软件,需要同时符合如下条件:“专门设计”用于“开发”具有任何“Gate-All-Around Field-Effect Transistor”(GAAFET)结构的集成电路的计算机辅助电子设计软件(ECAD软件)且该ECAD软件符合3D006的技术参数,且必须“专门设计”用于实现RTL到GDSII或等效标准,或者“专门设计”用于优化功率或定时规则(即:受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件)。 2. 本次BIS新规存在保留条款(Saving Clause)(详见本文上述),与之有关的重要时间节点是:2022年10月14日、2022年11月14日。 3.美国BIS对“受新ECCN 编码 3D006管制的ECAD软件”的管制技术描述及措施细则,还在征求公众意见中,但是,具体细则,已是可从瓦森纳安排发布的2021年版的《两用物项和技术清单和军需品清单》(List of Dual-Use Goods and Technologies and the Munitions List)中预测。 4.虽然瓦森纳安排项下对管制物项清单的变更、更新不能立即成为参与国的国内法,但各参与国(截至2021年12月27日共有42个国家,不含中国)将可能会因此修改一国内法,因此,建议每年关注瓦森纳安排发布的当年度管制物项清单是否存在变更、更新,以及时提前做出部署应对。
《附件一:瓦森纳安排参与国》
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